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고속 SiC 에칭 기술
HIgh-rate SiC etching technology

등록 2008.09.24 ⋅ 160회 인용

출처 미쓰비시전기기보, 78권 6호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.16
고밀도 ECR 프라즈마 에칭장치와 만든 SiC에칭 특성에 관하여 기술 [高速SiCエッチング技術]
  • 탈아연 부식방지법으로 부식성 환경에 부식억제 첨가에 따라 60/40 황동의 탈아연 부식방지의 가능성을 검토
  • 종래의 황색 크로메이트에 훨씬 더 많은 돈을 쓸 수 있지만 저비용 Iridite 80의 성능, 신뢰성 및 다용도성을 초과하지는 않습니다. 카드뮴 뿐만 아니라 염화시안화물 또는 ...
  • 아황산염 시스템을 사용하는 은 Ag 의 전기도금에서 낮은 pH 에서 더 높은 온도에서 분극이 감소하였다. 음극전류 효율이 감소하고 도금된 결정이 더 컸다. 낮은 pH 와 낮은...
  • 크로메이트 처리 ^ Chromate Treatment 크롬산 (chromate) 염의 총칭이다. 보통은 아연도금 또는 알루미늄의 방식의 목적으로 한 크롬산 처리를 말한다. 소재 금속을 6가크...
  • 무전해금 Au 도금 및 니켈 및 니켈합금 피막에 금을 도금하기 위한 도금욕의 조합에 관한 것이다. 조합은 예비조 구성된다.