로그인

검색

검색글 10967건
고속 SiC 에칭 기술
HIgh-rate SiC etching technology

등록 : 2008.09.24 ⋅ 133회 인용

출처 : 미쓰비시전기기보, 78권 6호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.16
고밀도 ECR 프라즈마 에칭장치와 만든 SiC에칭 특성에 관하여 기술 [高速SiCエッチング技術]
  • 고분자 화학 기술의 급속한 발전으로 ABS(아크릴로니트릴-부타딘-스티렌) 플라스틱은 비용 효율적이고, 가볍고, 성형하기 쉽고, 미학적, 디자인적으로 우수하기 때문에 많은...
  • 주석구리합금도금을 만들기 위한 도금조건의 확립으로 폐수처리 및 중화 침전처리의 적용의 가능성, 석출피막의 용해특성 및 결정구조에 관한 검토 (CH3SO3)2Sn CuSO4 C...
  • 도금액의 관리분야의 응용으로 크롬도금액의 크롬산, 황산구리도금액의 구리, 니켈도금액의 니켈등의 주성분의 정량 또는 불순물로서 크롬 및 황산구리도금액중의 철의 정량...
  • 내식성 및 내연료성이 우수한 자동차 연료탱크용 강판의 크로메이트 처리용액에 관한 것으로, 크로메이트 처리용액은 5g/ℓ 내지 10g/ℓ농도의 크롬과, 5g/ℓ내지 8g/ℓ농도의 9...
  • 아연-니켈, 아연코발트, 아연-철, 아연-망간, 주석-아연 및 아연-크롬 합금 전착을 포함하는 6개의 아연 합금 도금 시스템을 검토하였다. 모든 시스템은 표면 특성화, 물리...