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펄스도금의 원리 (1)

등록 2008.07.30 ⋅ 327회 인용

출처 , , 도금일반

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자료요약
카테고리 : 교재참고자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.04.21
Qualitative Approach to Pulse Plating 1. Introduction 화학적인 합성에 대조적으로 전해에서는 누구나 주어진 전류밀도를 조작하여 시스템의 반응속도를 제어할 수 있고, 전극전위를 조절함으로 반응 구동력의 양을 쉽게 선택할 수 있다. 최근의 전자기술은 거의 시간의 함수로 적용되는 주어진 전류와 전위에 의해 전해...
  • 현재의 반도체 산업, 전자 기기의 제조는, 포토 패브리케이션 기술이 없으면 성립되지 않는다고 해도 과언이 아니다. 포토 패브리케이션이란 사진의 현상 기술을 이용하여 ...
  • 염료형 구리광택제의 조성 Dye type Acid Copper zplating Brightener 구리도금 광택제는 단순히 한두 가지 물질로 구성된 것이 아니라, 각 단계 도금 공정에 맞춰 작용하는...
  • 기능성 크롬 전기도금조 및 공정을 설명하였다. 욕은 크롬산, 설포아세트산, 요오드 산염 및 질소 유기 화합물을 포함한다. 이러한 욕조는 밝고 밀착력이 있는 크롬 도금을 ...
  • 무전해 니켈-인 Ni-P 도금 처리는 내식성 및 미세 경도를 향상시키기 위해 소재로 스테인리스강에 적용되었다. 이 연구에서는 환원제로 차아인산소다을 사용하여 스테인리스...
  • 구리베릴륨 부품을 열처리하면 표면에 산화막이 생성된다. 표면 산화물은 베릴륨산화물 (BeO) 과 여러 구리산화물의 혼합물이다. 이 피막의 구성과 두께는 온도와 용광로 분...