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L-CELL- 도금 공정 진단을 위한 새로운 장치
L-CELL - A Novel Device for Plating Process Diagnostics

등록 2022.10.29 ⋅ 92회 인용

출처 L-Chem, 2004 SUR/FIN, 영어 18 쪽

분류 해설, 교재

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.17
도금 공정 실험을 위한 현재 기술은 헐셀 (Hull-Cell) 또는 그 파생물을 기반으로 하며, 이는 전착물의 육안 검사를 기반으로 정성적 정보만을 제공한다. 하나의 자동화된 빠른 실험에서 중요한 공정 매개변수를 정량적으로 결정할 수 있는 동시에 서로 다른 정밀하게 결정된 전류 밀도에서 전착물의 시각적 샘플링을 제...
  • 결정화에 대한 펄스 도금의 영향 1. Introduction 전착공정에서 이온들은 원자이동, 대류, 확산에 의해 음극으로 이동한다. 이러한 이온들은 charge-transfer 반응이 일어나...
  • 전자부품의 소형화, 인쇄배선 회로의 파인, 고밀도화에 따라, 접합용 금속박막 형성기술로 치환주석도금이 주목 받고 있다. 치환 주석도금의 납땜 부여를 위한 도금방법...
  • 염산 히드라진을 환원제로한 붕사첨가 니켈-코발트 Ni-Co 합금도금액을 만들고, 제작된 니켈-코발트-붕소 Ni-Co-B 합금피막의 조성, 석출속도, 편활성, 균일전착성등에 ...
  • 전기분해는 도금된 금을 고압 물 스프레이를 사용하여 쉽게 제거할수 있는 경우로드 탄소의 용출로 생성된 상대적으로 농축된 오로디시아나이드 용액에서 금을 회수하는 매...
  • 현장도금기술 5 책에 나오지 않는 도금 - 5 밀착불량 소재와의 밀착불량 [밀착불량]은 [피트] 만큼이나 다양하다. 소재의 전처리부터, 도금과 도금사이의 밀착불량은 우리가...