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초임계 유체를 이용한 선단 반도체 세척기술
Leading-edge semiconductor wafer cleaning technlogy using supereritical Fluids
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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.18
차세대 LSU 프로세스를 향한 미량의 약제를 첨가하여 초임계 CO2 를 이용한 실리콘웨이퍼 표면세척의 기술을 함에 있어, 그 연구배경과 성과를 요약하여 소개
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광택 주석 전기도금에 관하여 현재까지 발표된 관련보고의 개요를 설명하고 문제점과 발전방향등의 설명
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알루미늄 또는 알루미늄 합금의 피막을 가진 금속에 단시간내에 양극산화하여, 그 표면에 내식성이 좋으며, 내마모성이 좋은 갈색의 색상이 양호한 산화알루미늄 피막을 생...
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티오황산염 이온에 의해 착화되는 구리, 은 또는 금과 같은 1가 금속을 하나 이상 포함하는 전기도금에 사용하기 위한 용액 및 예를 들어, 유기 설포네이트 화합물의 안정제...
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합금의 마모 및 부식 거동을 개선하기 위해 코팅이 가장 적합한 방법으로 밝혀졌다. 마그네슘 Mg 기본 합금은 광범위한 산업 분야에 적용된다. 이러한 합금은 높은 비강도를...
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간단한 표면처리로 모재에 항균성, 열전도성을 부여할 수 있는 알루미늄 또는 그 합금의 표면처리방법