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초임계 유체를 이용한 선단 반도체 세척기술
Leading-edge semiconductor wafer cleaning technlogy using supereritical Fluids
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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.18
차세대 LSU 프로세스를 향한 미량의 약제를 첨가하여 초임계 CO2 를 이용한 실리콘웨이퍼 표면세척의 기술을 함에 있어, 그 연구배경과 성과를 요약하여 소개
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도금업 근로자들의 크롬 및 니켈에 폭로되고 있는 작업환경에서 요 및 혈철에 이들 금속이 함유된 정도가 얼마나 되는지 그리고 비폭로 집단과는 어느정도 차이가 있는지 실험
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에찬트 제조공장의 온라인에 맞는 실증실험으로, 재생결과 및 조작조건과 전해액 농도의 영향에 관하여 검토한 보고서
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무전해 니켈 도금욕에서 붕수소화붕소나트륨 또는 질산탈륨 농도에 따른 Ni-B 도금의 내식성 의존성을 조사하였다. 제안된 컴퓨터 분석은 Ni-B 도금의 내식성을 평가하는 더...
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황산염 용액에서 박막을 전착하는 동안 구리의 핵형성 메커니즘은 전기화학적 기술 (순환 전압 전류법 및 시간 전류법) 과 원자력 현미경 (AFM) 을 사용하여 연구하였다. 거...
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산화철 ㆍ Iron Oxide 철의 산화물의 총칭이며, 산화철 FeO, 43산화철 Fe3O4, 32산화철 Fe2O3 의 3종류가 있다. [산화철] (FeO) 옥살산철(Ⅱ)를 공기를 단절하고 태우거나, F...