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MEMS 응용을 위한 도금장치의 제작 및 특성 연구
Plating device for MEMS apllication and study of specipication

등록 2008.09.24 ⋅ 69회 인용

출처 한국반도체및디스플레이장비학회, 2004년, 한글 7 쪽

분류 연구

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저자

기타

한국반도체 및 디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 논문집

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
  • 귀금속 회수 시스템 REM 시리즈는 화학, 도금, 인쇄 기판, 일반 금속 마감재 및 보석 부문의 다양한 생산 공정에서 소진된 솔루션을 위해 제작되었습니다. 회수된 자재와 저...
  • 많은 금속은 금속을 양극으로 만들며 적절한 전해액에서 전해되면 금속 표면에 피막이 형성된다. 모든 피막은 다양한 형태의 산화물로 세 가지 유형으로 분류된다.
  • 양극산화 피막의 미세공중에 자성금속을 전해석출하여, 수직 이방성을 나타내는 자기박막을 형성하였고, 이 박막은 프린터, 디스플레이, 고밀도 자기 메모리 등의 ...
  • 광택니켈도금의 내식성에 대한 욕조성 및 광택제의 영향을 연구하였다. 황산니켈과 염화니켈 농도의 상호작용은 내식성에 영향을 미치지 않았다. 음극전류 밀도와 총니...
  • 타그나이트 · Tagnite 마그네슘 양극산화 처리법으로 [DOW17|Dow 17] 및 [HAE] 처리법보다 6~10 배 더 작은 기공의 고밀도 층을 만들어 항공우주 및 방산 부품의 마그네슘 [...