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MEMS 응용을 위한 도금장치의 제작 및 특성 연구
Plating device for MEMS apllication and study of specipication

등록 : 2008.09.24 ⋅ 49회 인용

출처 : 한국반도체및디스플레이장비학회, 2004년, 한글 7 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

한국반도체 및 디스플레이장비학회 2004년도 춘계학술대회 논문집

자료 :

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분류 :
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.07.29
MEMS 응용을 위해 금속막을 형성할수 있는 electroplating 장비를 제작하고, 앞서 언급한 공정변수에 따른 막의 두께 거칠기 등의 특성을 조사
  • 니켈-철 합금도금액 관리 ^ Nickel-Iron Alloy Plating Bath Control pH 액중 Fe3+ 이온농도를 최소로 유지하기 위하여 액의 ℃ 는 3.0~3.6 을 유지한다. ㏗ 가 높으면 광택...
  • 에틸렌디아민 4삭산 2소다, 탄산암모늄 및 암모니아수를 함유한 알칼리성 용액에서의 은-팔라듐 Ag-Pd 합금도금에 관하여, 기본적인 용액조성, 전류밀도 및 얻은 합금피막의...
  • 유독한 6가크롬을 함유한 전기도금욕의 친환경 대안으로서 3가크롬욕의 개발현황에 관하여 조사하였다. 카바미드와 포름산을 함유한 3가크롬욕의 주요 기술적 특성을 설명하...
  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.
  • 새로운 무전해도금 촉매 및 동일한 선택적 도금을 사용하는 방법을 설명하였다. 촉매 및 공정은 특히 전자부품의 EMI 차폐형성에 적합하다. 무전해도금 촉매는 ...