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3차원 구현 TSV를 향한 무전해 도금 배리어 막 형성과 그 위의 직접 무전해 Cu 도금
Electroless Plating of Barrier Metal for TSV of 3-D Integration and Cu direct ECP Filling on It

등록 2025.06.04 ⋅ 39회 인용

출처 표면기술, 75권 11호 2024년, 일본어 5 쪽

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기타

3 次元実装 TSV に向けた無電解めっきバリア膜形成と その上の直接無電解 Cu めっき

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.06.04
3차원 실장에서의 관통 전극 형성에 대한 배리어 메탈 응용을 목표로 [무전해도금]법에 의한 고융점 금속 합금 배리어 메탈 기술을 검토하였다
  • 응력이 없는 무전해 구리도금하는 방법을 시험하였니다. 이 방법은 촉매화된 표면을 구리이온 공급원, 구리이온을 위한 환원제를 포함하는 용액과 접촉시키는 단계를 포함한다.
  • 피라졸(PA) 의 부재 및 존재하에 염산 HCl 용액에서 철의 부식 및 부식억제는 전위역학 분극 및 전기 화학적 임피던스 분광법 (EIS) 에 의해 조사되었다. 임피던스 매개변수...
  • 턴도금 강판은 납-주석 Pb-Sn 합금도금된 강판으로, 통상은 강판을 산세후, 프럭스를 이용한 용융도금법을 공업적으로 생산하고 있다. Pb-Sn 합금은 가솔린 또는 물등 유기,...
  • 전기도금 공정에 대한 교반 및 온도의 영향과 함께 전기도금 용액 안정성을 연구했다. 용액의 유효수명은 약 3 일이다. 또한, 너무 많이 교반하면 Sn 함량이 감소하고 도금...
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