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반도체에의 표면처리 - 금 Au 과 납땜(솔더) 범프
Plating on LSI wafer - bump making process for gold and solder

등록 2010.01.22 ⋅ 73회 인용

출처 표면기술, 44권 12호 1993년, 일어 10 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.03
LSI 범프 도금에 필요한 문제점의 설명
  • N9
    Ralufon N9 ^ RALUFON N 20-90 ^ Poly(ethylene glycol) 4-nonylphenyl 3-sulfopropyl ether potassium salt CAS : 119438-10-8 C36H65KO13S = 777.06 g/mol [산성아연도금]...
  • 중국 및 동남아의 추격을 허용하고,일본과의첨단기술격차는 더벌지고 있는 알루미늄 전해콘덴서에 대한 연구개발 동향,특허동향, 산업및시장동향을 체계적이고 심도 있게 분...
  • 상용 부식억제제가 산세속도를 감소시키는 효과와 충분한 부식억제능을 확보 하지 못하여 강의 표면 밝기와 부식현상을 초래하므로, 첨가제의 성능 경제성 및 조업성을 고려...
  • 황산 산성의 황산제일주석욕에서 주석전착 및 일련의 프로오닉 및 할로겐 이온의 영향에 관하여 헐셀시험 및 석출과전압의 측정과 이 작용기구를 해명한 실험
  • 금 스트라이크 도금 ^ Gold Strike Plating Bath 두께금 도금용으로 이용되는 유기산계의 [산성금도금욕|산성 금도금욕]으로 스테인리스ㆍ니켈 합금 등의 소재에 이용한다. ...