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도금성이 우수한 IC 리드프레임용 Cu-Ni-Si 합금
Cu-Ni-Si alloy for IC Lead-frame

등록 : 2008.09.24 ⋅ 39회 인용

출처 : 신동기술연구회지, 35권 1996년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10
일반적인 용액이 적하 가능한 42 아로이와 동일 이상의 강도와 양호한 전도율의 재료로서 구리-니켈-규소 Cu-Ni-Si 계 합금의 조성과 제조 프로세스를 선정하여 KLF118 을 개발하였으며, 이 합금의 주요한 특성을 설명 [めっき性に優れたICリードフレーム用Cu-Ni-Si合金]
  • 니켈도금 피막표면에 이물이 혼입하여 불량품이 발생된었다. 이 불량의 원인을 알려 주십시요.
  • pH 상승을 억제하는 DFR의 박리 및 영향을 최소로 하여, 양호한 금속 망간피막 패턴도금을 만드는 원리와, 도금욕조성과 도금조건에 관한 연구
  • 순수 주석 전기도금은 수년동안 수동 부품의 종단에 납땜 가능한 도금을 생산하는데 사용되었다. 이러한 도금은 조립공정중 적절한 전기연결에 필요한 성능 특성을 제공한다...
  • 안녕 하세요 궁금한것이 있어서 질문드립니다 알루미늄 아노다이징 작업을 하는데 봉공 처리후에 제품 전체적으로 하얗게 서리가 내린것처럼 탁하게 나옵니다 칼라제품 실버...
  • 알칼리성 징케이트액에서 아연을 전착하는 동안 생성된 수소의 양을 회전링 디스크 전극 (RRDE) 기술을 사용하여 측정하였다. RRDE 기술이 신뢰할수 있는 결과를 제공하...