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마이크로 비아 충진 구리 전기도금 기술
Copper Electroplating Technology for Microvia Filling

등록 : 2009.05.18 ⋅ 51회 인용

출처 : HKPCA, NO. 14, 영어 13 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Mark Lefebvre1) George Allardyce2) Masaru Seita3) Hideki Tsuchida4) Masaru Kusaka5), Shinjiro Hayashi6)

기타 :

자료 :

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.08
마이크로비아를 전도성 재료로 채우면 적층된 비아와 비아를 패드설계에 사용할수 있으므로 추가 패키징 밀도를 높일수 있다. 다른 잠재적인 설계 속성으로는 열관리 향상과 고주파회로의 이점이 있다. 전착구리는 마이크로 비아를 채우는데 사용할수 있으며 플러깅 기술을 통해 대안에 비해 잠재적인 이점을 제공한다. ...
  • 무전해 구리도금에서의 반응 ^ Electroless Copper Solution 무전해 구리도금은 구리 기판상에 [포르말린]의 [산화반응] (국부 아노드반응) 과 구리이온의 [환원반응] (국부...
  • 도금으로 생산되는 금속-반 (비) 금속계의 비정질합금에 관하여 펄스전해와의 관계를 중심으로 설명
  • 구리도금의 실용화는 약 120년 전의 황산동욕에서 출발하지만 생산기술적으로 급속한 진보를 이룬 것은 불과 30년 정도 전이다. 도금 막의 두께와 연속성, 도금 속도, 광택...
  • OX 401 ^ Polyethylen/Propylene Glyvol (β-Naphthyl) (3-Sulfopyopul) Diether [NAPE 14-90|Ralufon NAPE 14-90] 참고 [도금광택제]
  • 유니버살셀 · Universal Cell [헐셀] (Hull Cell) 은 도금욕의 최적화, pH, 전류 밀도, 온도 등과 같은 매개변수 측정하고. [하링셀] (Haring Cell) 은 [균일전착성]을 형성...