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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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IN-Situ XRD 측정법에 의한 구리의 무전해석출 과정 검토
In situ X-ray diffraction study of electroless deposition of copper

등록 2008.07.31 ⋅ 64회 인용

출처 표면기술, 43권 5호 1992년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.16
In situ XDR 측정용의 전용 셀을 새로히 고안하여, 구리의 무전해 석출 과정의 경시 변화를 박막 XRD로 측정하는 방법을 검토하고, 무전해 석출과정에 있어서 첨가제 효과에 관하여 결정학적 연구를 함

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