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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...

새로운 무전해도금 촉매 및 동일한 선택적 도금을 사용하는 방법을 설명하였다. 촉매 및 공정은 특히 전자부품의 EMI 차폐형성에 적합하다. 무전해도금 촉매는 액체필름형성 조성물에 분산된 촉매 미립자를 포함한다.

무전해도금기타 · 미국특허 · USP 5288313 · J- Chude Former · 참조 10회

팔라듐 및/또는 팔라듐합금의 무전해도금을 위한 수용성도금욕 조성물 및 이러한 조성물을 이용하는 방법에 관한 것이다. 도금욕은 팔라듐이온 공급원, 환원제, 인이 없는 질소화된 착화제 및 1~5 개의 포스포네이트 잔기를 포함하는 유기 안정화제를 포함한다. 수용성도금욕 및 방법은 도금욕이 구...

무전해도금기타 · 유럽특허 · EP 2 581 470 A1 · Hirsekorn Isabel-Roda · Wegricht Jens 외 .. 참조 20회

무전해 도금기술은 염화석 SnCl2 및 염화니켈 NiCl2 의 산성 무전해 도금조에 특수 착화제인 티오요소와 환원제인 차아인산소다를 첨가하여 Sn 함량이 높은 구리 소재에 주석-니켈 Sn-Ni 합금을 도금하는데 사용되어 활성화 전처리를 피했다. Sn-Ni 층의 주석 Sn 함량은 저온으로 최적의 도금조건에서 6...

무전해도금기타 · Alloys and Compounds · 447권 2009년 · Yong Kong · Jianqun Shao 외 .. 참조 21회

투명한 비전도성 소다 석회 유리에 NiP 피막을 무전해 도금하는 공정을 조사 하였다. 이 프로세스에는 에칭 및 활성화의 반복적인 주기가 2회 이상 필요 하다. 400 ℃ 및 600 ℃ 에서 NiP 피막의 어닐링 공정이 연구되었으며 최적의 열처리 조건이 확립되었다. NiP 도금을 평가하기 위해 pH가 서로 다른 N...

무전해도금기타 · CMRDI · 2013 · Madiha Shoeib · Elsayed M. Elsayed 참조 13회

비교적 전도성이 낮기 때문에 후막이 필요함과 소성에 의한 열 영향, 규소 Si 표면에 반사 방지를 위해 형성된 요철 구조에 의한 인쇄번짐 등의 과제가있다. Si 반도체도 있기 때문에, 전해 및 무전해 도금 밀착성이 좋은 박막을 직접 형성하는 것이 어렵다. 그 대책으로서 촉매화 처리로 불소 이온을 ...

무전해도금기타 · 표면기술 · 63권 12호 2012년 · Masato ENOMOTO · Shinji YAE 외 .. 참조 10회

고순도 알루미늄박판의 단면에 수소흡장성을 높히는 순 팔라듐을 무전해 도금법으로 성막한 형태에 관하여, 팔라듐의 수소흡장에 수소유기변형을 만들수 있는지를 검증 [無電解パラジウムめっき薄板の水素誘起曲げ変形]

무전해도금기타 · 금속학회지 · 77권 4호 2013년 · Keitaro Horikawa · Megumi Sadohara 외 .. 참조 8회

MID (Molded Interconnect Device)는 전기인프라(전도성 트랙) 또는 전기 구성요소가 있는 열가소성 구성요소로 정의할수 있습니다. MID는 매우 다양한 공정을 사용하여 제조되지만 모든 공정 체인에 공통적인 것은 사출성형을 사용하는 것이다. 기존의 사출성형, 2 성분 사출성형 및 인서트성형이 모두...

무전해도금기타 · NA · NA · Y. Zhang · P. T. Tang 외 .. 참조 12회

MID 기술을 통한 혁신적인 제품 디자인 최첨단 치과용 핸드 피스용 기본 부착 보드는 LPKF-LDS 기술을 사용하여 설계되었다. 이를 통해 콤팩트하고 손쉬운 구성 및 높은 수준의 기능을 제공하였다. 이 장치는 온수공급, 공기공급 및 특수 조명 제어를 통합하였다.

무전해도금기타 · LPKF · N/A · LPKS · 참조 39회

구리와 은의 무전해도금은 에폭시 및 이산화규소 기반 소재에서 조사하였다. 비용 효율적인 주석/은 Sn/Ag 촉매는 현재 보드기술에 사용되는 주석/팔라듐 Sn/Pd 촉매의 대체품으로 연구하였다. 에폭시기반 다면체 올리고머실 세스퀴옥산 (POSS) 필름의 표면은 거친 표면을 생성하지 않고 무전해 활성화...

무전해도금기타 · Electrochemical Societye · 159권 6호 2012년 · Nathan Fritz · Hyo-Chol Koo 외 .. 참조 12회

제트엔진이나 석유화학 컨비네이트등, 강내식성을 필요로하는 환경에 이용되는 코발트의 매유황성에 착안하여, 무전해법으로 만든 무전해 코발트도금의 내유황성에 관하여 검토 [XPSによるCo-Pめっき膜の耐硫黄性の評価]

무전해도금기타 · 표면기술 · 63권 9호 2012년 · 有山 雄介 · 池山 弘一 참조 11회