로그인

검색

검색글 정원철 1건
반도체 공정에서 구리기둥 주석범프의 전해도금 형성과 특성
Formation and Properties of Electroplating Copper Pillar Tin Bump

등록 : 2014.08.29 ⋅ 15회 인용

출처 : 한국해양정보통신학회, 2010 추계종합학술대회, 한글 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

왕리1) 정원철2) 조일환3) 홍상진4) 황재룡5) 소대화6)

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.04
구리기둥의 산화방지 대안으로 주석측벽 산화방지 보호막 구조의 범프제작, 제안된 구조의 도금기법을 비롯한 제작공정과 방법의 소개, 기존의 CPB-구리기둥 범프와 주석측벽 보호막 구조의 개선된 CPTB-구리기둥 주석범프의 전기적 특성에 대하여 비교, 분석 및 고찰
  • 황산주석 도금 ^ Tin Sulfate Plating bath ^ Stannous Sulfate Plating Bath 황산제일주석과 황산을 주제로 한 산성욕으로 [주석산욕|알칼리욕]에 비하여 2~3 배 빠른 도금...
  • 크롬도금의 성능을 개선하고 공정 흐름을 단순화하며 전기도금의 효율성을 개선하기 위해 DC 크롬도금과 펄스크롬 도금공정을 비교하고 도금공정이 두께균일성, 경도, 다공...
  • 전기화학적인 방법 및 ESCA 에 의한 아연-몰리브덴 Zn-Mo 전기도금 강판의 내식성에 있어서 도금층 중의 Mo 의 영향에 관하여 조사
  • 마그네슘에 대한 전환 피막의 특성은 미세구조 및 구성과 밀접한 관련이 있다. 이 연구는 AZ31 마그네슘 합금에 인산염/과망간산염 전환 피막의 진화와 미세구조를 조사했다...
  • 1. 전착의 메커니즘 2. 도금 욕의 법칙과 특성 3. 도금 4. 도금 준비 단계 5. 표면의 준비 6. 청소