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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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합성 석영소재 포토마스킹의 습식에칭의 적용
Wet Etching of Synthetic Quartz Substrate for Photomask Application

등록 2014.09.10 ⋅ 21회 인용

출처 표면기술, 55권 8호 2004년, 일어 6 쪽

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기타

合成石英基板フォトマスクへの湿式エッチングの適用

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.14
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