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전자부품의 새로운 도금기술
Advanced Plating Technology for Electronic Devices

등록 : 2014.03.25 ⋅ 27회 인용

출처 : 전기화학, 74권 1호 2006년, 영어 10 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.12
전자장치의 금속화 및 연결에 사용되는 도금기술에 중점을 둘것이다. 금속화에서는 반도체 및 PCB용 구리도금에 의한 배선형성, 특히 첨가제에 중점을 두고, 구리 전기도금에 의한 비아필링, 절연층과 도큼층된 금속간의 밀착강도 향상에 대해 설명한다. 전자장치의 연결에서는 전기도금 및 무전해도금에 의한 범프형성과 [[...
  • 진행되는 반응의 특성과 생성물의 형태는 이온환원반응에서 형성된 금속입자의 촉매 활성의 유무에 따라 크게 영향을 받는다. 대부분의 경우 이러한 반응은 형성된 고체 생...
  • 코발트-텅스텐 Co-W, Co-Ni-W, Co-P-W, Co-Ni-P-W 합금을 얻기 위해 전해질 조성을 탐구하였다. 권장 도금액은 0.2 M MeSO4, 0.4 M Na2WO4, 0.5 M 구연산 및 1.5 M 암모니아...
  • 경질 아노다이징 후 흑색을 낼려고 하는데 황산 전해액으로는 염료가 잘 먹지 안는데요 보다효과적인 방법이 없을까요? 욕온2~5도 전해시간 40분 황산농도 20~22 피막두께20...
  • 은 도금액 관리 ^ Cyanide Silver Plating Control 시안화은 은 이온의 공급원 시안화칼륨ㆍ시안화소다 금속 착이온을 만들며 전기전도도를 높혀 양극용해를 좋게 한다. 칼...
  • 금속의 전착 계수 2 금속 원 자 가 그램 당량 비중 전기화학 당량 mg/쿠롱 1A/dm2 통전석출양 1A×시간당 석출량 1 dm2/ m 또는 1g 석출 소요전기량 1dm2 1㎛ 중량 이온 m/...