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반도체와 전기화학 1
Cu elecreodeposition for semiconductor interconnection
등록
:
2008.09.04
⋅ 60회 인용
출처
:
한국공학연구정보센터
, na, 한글 5 페이지
분류
:
해설
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
김수길
1)
기타
:
자료
:
분류 :
반도체
⋅
전기화학
⋅
목록
알루미늄 표면처리제
도금인의 소식지 표면처리세계
도금첨가제 원료
자료요약
카테고리 :
종합자료
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.14
배선물질의 구리로의 전환에 따라 새로운 층간 절연막/확산방지막의 개발. 상감공정을 통한 3차원 패턴구조의 형성, 습식/무전해도금을 이용한 무결함 구리막의 형성에 대한, 3차원 배선구조형성을 알아봄
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