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반도체와 전기화학 2
Other electrochemical deposition techniques for semiconductor interconnection

등록 2008.08.20 ⋅ 46회 인용

출처 화학공학연구정보센타, na, 한글 5 페이지

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2012.12.04
전해도금외에 부가 공정용으로 사용되는 몇가지 전기화학적 박막 형성 방법인 무전해도금 및 치환도금에 관하여 설명
  • 인쇄회로 기판을 제조하는 동안 사용되는 공정은 변색방지 및 납땜가능한 코팅을 제공하기위해 금속패드 및/또는 관통구멍을 보호하는 것을 포함한다. 이 방법에서, 패드 및...
  • 카드뮴 Cd 는 우수한 내식성과 엔지니어링 특성으로 인해 부식방지 도금으로 광범위하게 사용되었다. 그러나 독성 때문에 대체 도금이 필요했다. 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금...
  • 환원제의 양이 적고 실질적인 사용에 충분한 도금속도를 유지하는 무전해금 Au 도금액을 제공하는 것을 목적으로 하며, 도금액 및 무전해 금도금을 수행하는 방법으로서 우...
  • 철함유량 최대 11%의 전기도금층을 제조하여 전기도금층의 결정구조, 철 함유량의 변화와 결정구의 변화, 전기도금층의 미세조직등에 관하여 연구
  • 금속의 합금 ^ Compositions of Varous Alloys in % Alloy Fe C Mn P S Si Cr Ni Mo Cu Other Incoloy Balance 0.05 1 - 0.03 0.5 23.5 46 3 2.5 - Inconel Balance 0.08 0....