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반도체 공정에서 구리기둥 주석범프의 전해도금 형성과 특성
Formation and Properties of Electroplating Copper Pillar Tin Bump
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분류
범프도금 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.04
구리기둥의 산화방지 대안으로 주석측벽 산화방지 보호막 구조의 범프제작, 제안된 구조의 도금기법을 비롯한 제작공정과 방법의 소개, 기존의 CPB-구리기둥 범프와 주석측벽 보호막 구조의 개선된 CPTB-구리기둥 주석범프의 전기적 특성에 대하여 비교, 분석 및 고찰
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사카린과 황산셀륨의 결정배향에 미치는 영향을 X선회절 및 전기화학적 측정을 통하여 시트의 입자 크기와 내식성을 연구하였다. 피막 결정면의 방향과 입자크기 모두 [...
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도금조의 화학적제어는 어려운 분석 문제가 될수 있다. 도금되는 금속의 농도뿐만 아니라 주요양과 미량으로 존재할수 있는 다른 금속의 수준을 지속적으로 모니터링하는 것...
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Mg 합금상에 TiO2 초미립자박막을 형성하여, 그 광촉매반응을 이용하여 무전해도금의 광 패터닝을 만든 결과 보고서
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Zn-Ni-Mn의 전위차 전착을 Mn 염이 첨가된 알칼리욕에서 실험하였다. Zn-Ni-Mn 도금에 더 높은 Mn 함량이 존재하면 피막의 Rp가 7배 증가하고 부식 전류 밀도가 현저하게 감...
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유기안료로 착색된 양극산화 알루미늄 (알루마이트) 의 제조 및 내광성을 조사하였다. 알루마이트는 옥살산 용액에서 알루미늄의 양극 산화 후 50 ℃ 에서기공 확장하여 ...