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미세배선 성형을 위한 전주용 구리(동)도금액의 특성
Characteristics of copper plating solutions for electroforming of microcircuit

등록 2008.08.04 ⋅ 67회 인용

출처 한국재료학회지, 11권 10호 2001년, 한글 13 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.09.14
미세회로 형성의 최적조건에 대한 기초자료를 얻기 위하여 전주도금에 사용되는 대표적인 구리 도금액인 황산구리, 붕불화구리, 피로인산구리, 시안화구리 등의 도금액에 대한 전착특성및 도금층의 물성을 조사
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  • 순수한 인산염 및 구연산염 완충액으로 시안화금칼륨 KAu(CN)2 도금된 금 Au 도금은 금속 착화물에서 생성되는 탄소질 물질로 오염될수 있다. 금 피막의 불순물 수준은 기본...
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  • 도금 공정 실험을 위한 현재 기술은 헐셀 (Hull-Cell) 또는 그 파생물을 기반으로 하며, 이는 전착물의 육안 검사를 기반으로 정성적 정보만을 제공한다. 하나의 자동화...