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페놀설폰산욕에서 주석 Sn 도금에 있어서 Sn 이온 농도와 유속 및 전류밀도의 영향
Effects of stannous ion concentration flow rate and current density on tinplating by Phenolsulfonic acid bath

등록 : 2008.08.26 ⋅ 33회 인용

출처 : 표면기술, 50권 6호 1999년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.28
페놀설폰산욕에 있어서 고전류밀도 주석도금에 관하여, 전류밀도와 주석이온 농도, 도금액 속도가, 한계전류 밀도, 도금외관, 전석형태등에 있어서의 영향에 관하여 검토
  • NES
    Lugalvan NES ^ Sulfonated and Sulfated Alkylphenol Ethoxylate Lugalvan NES 는 [산성아연도금] 및 [주석도금|주석 전기도금용] 광택제로 사용한다. 도금욕의 운점의 개...
  • 1979년 4월 19일과 20일, 매사추세츠주 보스턴에서 미국전기도금협회 (American Electroplates Society)의 후원으로 개최된 국제 펄스도금 심포지엄에서 금 Au 의 펄스도금...
  • 알칼리계 세정제를 대표하는 수계 세정제류는, 환경 조업안정이 우수하여 폭넓게 소대 오염물질에 대하여 효과적으로 프론과 에탄을 대체하는 세척제로 주목받고 있다. 수계...
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  • 니켈스피드욕 (설파민산욕) ^ Nickel Speed Plating Bath 설파민산 니켈도금]|1| 600 g/l 설파민산니켈 5 g/l 염화니켈 40 g/l 붕산 pH 3.5~4.0 온도 60 ℃ 전류밀도 5~40 A/...