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전기 구리도금을 이용한 ULSI 배선형성의 첨가제 영향
Effect of additives in ULSI Circuit for COpper Electroplating

등록 2008.10.31 ⋅ 76회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회, 2003년, 일본어 2 쪽

분류 연구

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電気銅めっきを用いたULSI配線形成への添加剤の影響

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.12.05
SPS 와 유사한 구조를 가진 브라이트너를 합성하여, 그 전기화학적 거동 및 미세 비아 또는 트렌치에의 스루홀 특성에 관하여 검토하였다. MES (2-메르캅토에탄 설폰산소다), MPS (3-메르캅토 -1-프로판 설폰산소다), SES (비스 -2-설포에틸 디설파이드 2 나트륨/시판품이 없어서 합성) 의 효과를 검토한결과 복극효과를...
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  • 이 프로젝트는 반도체 응용 분야의 VLSI 기능을 위해 특허받은 패러다익 공정을 사용하여 최소한의 오버플레이트로 구리를 증착할 수 있는 가능성을 입증했습니다. Copper M...
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