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헐셀을 대신한 새로운 셀의 제안
New Cell as a substitute for Hull Cell

등록 : 2010.01.07 ⋅ 37회 인용

출처 : 금속표면기술, 29권 3호 1978년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.02
헐셀은 음극이 양극에 비스듬하게 배열된 실험용 도금셀로, 광범위한 전류밀도의 도금은 단 한번의 전착만으로 테스트가 가능하다. 따라서이 셀은 도금상태 결정, 도금액의 구성 및 도금 욕제어에 널리 사용된다. 그러나 음극의 임의 지점에서 전류밀도를 이론적으로 정확하게 계산하기는 어렵다. 따라서 일반적으로 몇 가지...
  • Cu-Si3N4 복합 피막은 혼입된 Si3N4 입자를 함유한 황산구리 욕조에서 복합전착하여 얻어졌다. 계면활성제(SDS) 농도, 교반 속도 및 입자 농도와 같은 일부 전기도금 매개변...
  • 하스텔로이 ㆍ Hastelloy 고내식 니켈합금으로 미국의 하이네스 스테라이트사 (Haynes Stellite)가 개발한 합금의 상품명이다. 일반 [스텐리스강]은 염산 용액중에 사용하기...
  • 금속표면, 특히 아연 및 아연합금 표면을 처리하여 투명도와 경도가 개선된 부동태피막을 도금하고 이에 개선된 내식성을 부여하기 위한 산성수용액 및 공정.
  • E-Brite 207은 일정한 경도를 지닌 연성 도금을 생성합니다. 경도 210 – 220 Hv로 자기 어닐링에 대한 저항성이 뛰어나고 조각 특성이 좋습니다. 유휴 기간이나 주말 가동 ...
  • PC에 대한 금속도금의 밀착 강도를 연구했으며, 밀착력을 향상시키기 위해 표면을 화학 약품 또는 DBD (유전체 장벽 방전) 플라즈마로 처리했다. 표면 거칠기, 접촉각, 도금...