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검색글 K. Ruess 1건
마이크로장치에서 고속 금 Au 도금
High Performance Gold Plating form Microdevice

등록 : 2012.08.13 ⋅ 90회 인용

출처 : NA, NA, 영어 21 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.13
초소형 전자기기의 성능이 크게 향상되면서 금 Au 도금 제조공정에 대한 수요가 증가했다. 지속적인 도금욕 관리와 이에 따른 시너지 작동 모델의 적용을 통해 고품질의 금 피막을 아황산염 금 도금액에서 전착되었다.
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  • EDS
    에너지 분산형 분광분석 ^ Energy Dispersive Spectrometer EDS 는 Energy Dispersive Spectrometer 의 약자로 energy despersive x-ray dpectroscopy 라는 원소분석기를 말...
  • 전기분해는 실질적으로 잔류물을 생성하지 않고 매우 저렴한 비용으로 허용 가능한 작업 시간 내에 산화물을 제거하는 효과적인 방법이다. 공정은 사용된 전해질의 농도, 전...
  • ZNC-5710 특징 ZNC-5710은 RoHS, ELV 에 부합되는 아연도금후 3가 무색 (청백색) 크로메이트 처리제로서 OEM, ODM 공급 방식으로 고객 대응을 하고 있습니다. ...
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