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도금기술의 기초
Plating Technologies

등록 2011.08.29 ⋅ 72회 인용

출처 전자실장학회지, 6권 7호 2003년, 일어 9 쪽

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.20
일렉트로닉스 실장분야에 있어서 사용되고 있는 기술을 중심으로, 도금반응의 기본적인 생각과 각종 도금피막 프로세스에 관하여 재료기술의 기초적관점에서 설명
  • 인듐 도금 · Indium Plating 베어링 합금용의 도금으로 납 도금 후 인듐 도금을 하고 유욕중에 가열하여 납-인듐 합금을 만들어, 항공기 엔진 부품 등에 사용된다. 시안화욕...
  • 전석법에 의한 전석조건을 변화하여 여러종류의 조성의 Fe-Ni 합금박막을 만들고, 그 결정학적구조를 조사하고, 막의 표면형태와 단면의 조직구조와의 관계를 전자현미경을 ...
  • 연료전지 전극으로 사용되는 재료는 가볍고, 전도성이 높고, 반응을 위한 높은 표면적, 촉매표면 및 다공성구조의 균일성 이어야 한다. 니켈은 그 자체가 촉매 특성을 가지...
  • 가성 알칼리성 코발트 도금욕의 환원효율 및 제반조건의 영향을 조사하고, 일치하는 유사 조건하에 있어서 니켈도금욕의 경우와 비교 검토한 보고서
  • 여러도금액의 첨가제에 대한 조사