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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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유기 포스포네이트 및 구리이온이 오염 물질이 포함된 전기도금조에서 제거될수 있는 공정이다. 과도한 아세테이트염 함량은 용액에 오염 물질을 남기고 제거될수 있는 구리/유기 포스포네이트 (HEDP) 도금의 석출을 유발한다.
구리/합금
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미국특허 · 1993-5266212 · Jeff Szotek ·
참조 43회
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구리전기도금 조성물, 이 조성물의 사용 방법 및 이 조성물에 의해 형성된 제품을 제공한다. 본 발명의 전기도금 조성물은 고종횡비, 작은 직경의 마이크로비아를 비롯하여, 도금이 곤란한 어퍼쳐 벽상에 효과적인 구리도금을 제공할 수 있는 광택제가 증가된 농도로 함유한다.
구리/합금
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한국특허 · 2005-0514251 · 바스테드레온알 ·
리츠왈스키제임스이
외 ..
참조 42회
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유기 보호 피막이 구리표면에 단단히 부착되어야 한다. 따라서, 광택 도금보다 무광택 구리층이 선호된다. 본 발명에 따른 욕은 구리의 무광층을 도금하는 역할을 하며, 적절한 캐소드 전류밀도에서 매우 좁은 보어홀에서 충분한 도금두께로 층이 도금될수 있다는 추가적인 이점을 갖는다.
구리/합금
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국제특허 · 2002-0233153 A2 · Gonzalo URRUTIA DESMAISON ·
Stefan KRETSCHMER
외 ..
참조 49회
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-X-S-Y- 구조를 포함하는 화합물을 전해 구리도 금액을 이용한 전해 구리도금 방법. 여기서 X와 Y는 수소원자, 탄소원자, 황원자, 질소원자, 산소원자 중에서 독립적으로 선택된다. X와 Y는 탄소원자인 경우에만 동일할수 있으며, 전해 구리도금액과 오존을 접촉시킴으로써 공개된다.
구리/합금
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미국특허 · 2005-6977035 · Hideki Tsuchida ·
Masari Kusaka
외 ..
참조 33회
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전해구리 도금방법이 제공되며, 여기서 구리는 소재에 전해도금 되고 전해 구리도금에 공급되는 전해 구리도금 용액은 불용성 양극을 사용하여 더미 전기분해된다. 위에서 설명한 방법은 전해 구리도금을 유지하고 복원할수 있다.
구리/합금
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미국특허 · 2004-6853294 · Hideki Tsuchida ·
Masaru Kusaka
외 ..
참조 46회
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구리 전기도금 공정은 양극이 양이온 투과성 막으로 둘러싸여 전기화학조에서 첨가제의 분해를 방지하는 방식으로 설명되었다. 이러한 기능은 도금액의 수명을 늘리고 전기도금 공정중 도금액 화학 및 도금 품질을 더잘 제어할수 있게 한다.
구리/합금
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미국특허 · 1984-4469564 · Yutaka Okinaka ·
Craig G. Smith
외 ..
참조 47회
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고 종횡비 홀을 갖는 공작물을 전기도금하는 방법
고 종횡비 구멍을 포함하는 공작물을 전기 도금하기 위해 공작물 및 하나 이상의 양극을 금속 도금 전해질과 접촉시키는 단계를 포함하는 방법이 개시된다.
구리/합금
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국제특허 · 2004-081262 · Bert REEBTS ·
Tafadzwa MAGAYA
참조 61회
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고가의 진공장치를 사용하지 않고 간단한 금속박막 형성방법을 확립할 목적으로 전기도금으로 구리박막을 형성한 결과, 황산구리도금법으로 광택이 있고 매끄러운 표면을 얻을 수있다. 두께 1.0 ㎛ 이하의 구리박막을 얻었다.
구리/합금
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Web · na · Tetsu IKEDA ·
Masaki SONODA
외 ..
참조 80회
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기판상에 형성된 비아홀의 비아필도금에 사용하는 전기 구리도금욕으로서, 수용성 구리염, 황산, 염소이온, 및 첨가제로서 레벨러를 함유하고, 레벨러가 폴리비닐 이미다졸리움 4차화물 또는 비닐피롤리돈과 비닐 이미다졸리움 4차화물의 공중합체
구리/합금
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한국특허 · 2006-53951 · 이소노 도시히사 ·
다치나바 신지
외 ..
참조 33회
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폴리비닐 피로리돈을 포함하는 구리도금 전해액 및 이를 이용한 반도체소자의 구리배선용 전기도금방법
구리염 수용액, 수용성 에톡실레이티드 베타 나프톨 화합물, XO3S (CH2)3 SS(CH2)3 SOX3 의 조성식으로 표시되는 디설파이드 또는 HS(CH2)3 SO3X 의 조성식으로 표시되는 수용성 메르캅토프로판설폰산염 (여기서, X는 나트륨, 칼륨 또는 수소이다) 중에서 선택된 하나의 화합물, 분자량 4600~10,000...
구리/합금
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한국특허 · 2002-0366631 · 이선정 ·
장규환
외 ..
참조 52회
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