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반도체에의 표면처리 - 금 Au 과 납땜(솔더) 범프
Plating on LSI wafer - bump making process for gold and solder

등록 2010.01.22 ⋅ 68회 인용

출처 표면기술, 44권 12호 1993년, 일어 10 쪽

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.03
LSI 범프 도금에 필요한 문제점의 설명
  • 구연산욕에서 철강 소재에 니켈을 전기도금하는 것은 다양한 용액 조성, 전류 밀도, pH 및 온도 조건을 조사하였다. 전위역학적 음극 분극 곡선, 음극 전류 효율 및 침투력...
  • Antitarnish-A-100은 수용성으로, 유기 억제제를 분산한 금속이 없는 용액입니다. 부동태(패시베이션) 층은 일반적으로 침지로 생성된다. 귀금속 도금용으로 특히 은, 귀금...
  • 국내가동 원자력발전소에서 많이 발생하고 있는 증기발생기전열관의 부식손상을 방지하거나 파괴된 전열관의 보수를 위하여 설파메이트 용액에서 전열관 내면의 Ni 또는 Ni ...
  • 구리도금 광택제 ^ Copper AdditiveㆍBrightener [구리도금광택제|구리도금 광택제] [구리광택제염료|구리광택제 염료] 참고 [도금광택제]
  • 도금프로세스의 고도화에 필요한 양극에 관계하는 과제로, 이온교환막과 불용성양극을 활용한 시스템의 개요와 적용예를 소개