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검색글 심진용 2건
고전류밀도에서 첨가제에 따른 구리도금의 표면 특성 연구
The effect of additives on the high current density copper electroplating

등록 2014.03.19 ⋅ 30회 인용

출처 Micr. & Pack Soci., 18권 1호 2011년, 한글 5 쪽

분류 연구

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저자

심진용1) 문윤성2) 허기수3) 구연수4) 이재호⁵)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.15
첨가제가 구리표면에 미치는 영향을 알아보기 위해 정전압 실험을 사용하여, 레벨러로 사용되는 glue 와 결정립 미세화로 사용되는 티오우레아 thiourea 를 첨가하여 구리표면 성장변화를 관찰하였다.
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  • 헐셀시험 개요 ^ HullCell Test Outline HullCell 시험에서 만들어진 시험판은 일반 작업 현장의 전류밀도 범위 보다는 넓은 (대략 100배, 예로 총전류 2 A 로 시험한다면 ...
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