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검색글 반도체 6건
반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 : 2014.03.20 ⋅ 12회 인용

출처 : CHERIC, , 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 바렐연마 ㆍ Barrel Polishing ^ tumbling barrelling 물품을 물통형 용기 (바렐ㆍBarrel) 에 연마제와 같이 넣어서, 용기를 회전시킴으로서 물품끼리 마찰을 주어 표면을 ...
  • 금속 부품의 부식은 항공부문의 주요 문제로 안전문제와 심각한 재정적 손해를 초래한다. 6가크롬에 적용된 변환코팅 (CC) 은 비교적 저렴한 비용으로 탁월한 부식방지 기능...
  • 도금 반응을 원활하게 진행하고 도금되지 않은 부분의 발생을 억제하기 위해 복합도금을 수행하기 전에 무전해 도금욕에서 도금될 대상에 대해 플래시 도금을 수행하였다.
  • 양극산화는 내구성, 장식 및 부식방지 처리에 적용되어 압출 건축 및 구조용 알루미늄의 마감 공정으로 사용 된다. 원하는 표면 및 구조적 특성에 따라 수많은 알루미늄 합...
  • 알루미늄 합금에 대한 니켈-텅스텐-인 (Ni-W-P) 삼원합금 무전해도금의 내마모성을 연구하고, 알루미늄 합금 (LY12) 에 대한 무전해 Ni-W-P 도금의 내마모성과 경도에 대한 ...