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검색글 반도체 6건
반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 : 2014.03.20 ⋅ 12회 인용

출처 : CHERIC, , 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 알루미늄은 열전도성이 뛰어나며 가볍고 저가이며, 휠 등에 알루미늄을 사용함으로써 차체의 경량화, 프린트 배선판에 알루미늄을 접착하여 방열 효율을 높이는 등의 이유에...
  • 황산염욕에서 Ni-Cd 합금전착을 하여 그 전석거동을 Zn-철족금속계와 각각 비교하고, Ni-Cd 합금전착기구에 관하여 검토한 보고서
  • 코로트리블루 익스트림은 1액형의 액상으로 사용하여 3가 피막을 제공하며 폐수처리가 용이한 3가 크롬을 함유하고 있다. 코로트리블루 익스트림 용액은 관리가 매우 용이하...
  • 은 Ag 은 장식용 및 기능용으로 다양한 용도로 사용되는 전기도금이다. 은의 산업용 전기도금은 은의 시안착화물로서 은을 함유하는 시안화물 용액으로부터 수용성 착화물로...
  • 금속의 전착 계수 2 금속 원 자 가 그램 당량 비중 전기화학 당량 mg /쿠롱 1A/dm2 통전석출양 1A×시간당 석출량 1dm2l m또는 1g석출 소요전기량 1dm2 1㎛ 중량 이온 m /...