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3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 2018.01.15 ⋅ 46회 인용

출처 KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료

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분류
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
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  • SAS
    SAS · Sodium allyl sulfonate [ALS] 참고 [니켈도금광택제|니켈도금 광택제] [도금첨가제]
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  • 크로메이트 피막의 구성 및 생산 기술, 금속 및 합금의 부식 방지에 적용한 일반적인 예를 요약하였다. 개별 크롬산염 피막은 CrVI 또는 CrIII를 사용한 음이온으로 나누어...
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