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TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 : 2014.02.23 ⋅ 16회 인용

출처 : 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
  • 프린트 배선판상의 두께 3~5 μm 납땜 도금 목적의 도금욕을, 납땜 페스트 대신 프린트기판에 실장시 필요한 10 μm 이상의 납땜 프리피막을 목적으로 한 두께 도금욕의, 새로...
  • 전해세정 첨가제로서 소재의 특성에 따라 전도염 구성하여 사용할 수가 있습니다. ① 전해 세정 첨가제로서 금속 소재에 따라 알카리염을 병행하여 적용할 수 있다. ② 액상 ...
  • 약간의 잔존성을 가진 자성행동을 보인 자기 나노 복합체이다. 금속 및 복합단계의 코발트양은 자화 곡선의 초기 기울기에 대한 각 단계의 기여도에서 계산된다.
  • 크로메이트 처리 ^ Chromate Treatment 크롬산 (chromate) 염의 총칭이다. 보통은 아연도금 또는 알루미늄의 방식의 목적으로 한 크롬산 처리를 말한다. 소재 금속을 6가크...