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PR 전해에 의한 비아필링의 형성
Via-filling by periodical reverse current

등록 : 2008.08.29 ⋅ 30회 인용

출처 : 표면기술, 48권 6호 1997년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.13
비아홀을 구성하는 저부의 도체층, 절연벽, 표면의 절연층의 위에 무전해구리도금으로 도체막을 형성한후, 직접전기구리도금으로 비아필링하는 방법에 관한 연구
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  • 전기도금에서 전류원 및 전류밀도에 따라 형성되는 구리박막의 미세결정의 구조 및 특성을 분석하였다. 또한 미세구조 변화가 구리박막의 특성에 어떠한 영향을 미...
  • 음극 전류 효율 ^ Cathode current efficiency 전기도금에서 음극으로 석출된 금속량의 이론 석출량에 대한 백분율을 말한다. 전류효율 = ( 실제석출량 ÷ 이론석출량 ) X 10...
  • 은 (Ag) 소결 세라믹의 도금 ^ Plating on silver Metallized Ceramic 도금 공정 [알칼리탈지|약 알칼리 탈지] 수세 10 % 질산 15 초 침지 수세 Ni-B [무전해니켈도금|무전...
  • 프린트 배선판 제조기술의 발전에 있어서 수평도금 기술의 역할과 최근의 기술동향에 관하여 설명