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서브 마이크로미터 연결 생산의 전기화학구리석출의 원리분석
Fundamental analysis of electrochemical copper deposition for fabrication of submicrometer interconnects

등록 : 2009.08.24 ⋅ 35회 인용

출처 : 와세다대학, Mar 2007, 영어 177 쪽

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.17
구리의 인터커넥터의 제조를 위한 전석에서, 무전해구리 석출은 새로운공정으로 연구 되었으며, 전기화학공적의 기계론적 이해를 위해 이들 시스템에서의 첨가제가 미치는 영향에 대하여 연구하였다. 본연구에서는 첨가제 Cl- PEG SPS JGB 등의 효과를 전기화학적 분극측정과 구리도금된 트렌치단면의 현미경관찰을 기반으로...
  • 전착 코발트-철 CoFe 필름의 성장 응력과 구조에 대한 첨가제로서의 사카린의 효과가 제시 하였다. 사카린 농도는 0 gL-1에서 1.5 gL-1 사이였다. 응력 측정은 캔틸레버 굽...
  • 도금피막의 박리 방법 ^ Plating Film Stripping Method 침지 박리 아연도금박리 크롬도금박리 구리도금박리 니켈도금박리 전해 박리 [라크박리제] 참고
  • 유기첨가제를 포함하는 황산염 전해질에서 주석 전기도금을 연구했다. 광택이 나는 매끄러운 주석 도금을 제조하기 위한 전해질이 개발되었다.
  • 염화제2철계 에칭액의 재생방법 및 구리 에칭용 염화제이철 염화제이구리 과황산암모늄계의 각용액, 반도체 (Si) 에칭용의 불산 혼액, 수지 에칭용의 중크롬산계 혼액등 각...
  • 전기 화학에 들어가기 전에 기초 식별로, 원자와 이온의 구조, 금속의 내부는 어떻게되어있는 것일까, 그리고 용액의 구조라는 점에 대해 물질의 원 점이다 전자와 원자핵 ...