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Modern Electroplating (14) 반도체의 전기도금
ELECTRODEPOSITION OF SEMICONDUCTORS

등록 : 2012.07.23 ⋅ 70회 인용

출처 : Modern Electroplating, na, 영어 29 쪽

분류 : 교재

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.08.11
반도체의 도금을 상세하게 조사하였으며 수년에 걸쳐 많은 생산자들에 의해 입증되었습니다. 이러한 노력은 주로 도금이 쉽게 확장될 수 있는 비교적 단순하고 저렴한 도금기술이라는 사실에 의해 동기가 부여된다. 일반적으로, 이 방법에 의해 도금된 피막은 분자빔 에피택시 또는 화학기상증착과 같은 기술에 의해 증착된 ...
  • 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금의 넓은 조성범위를 가진 γ 상과 경사조성 이라는 개념에 착안하여, Zn-Ni 합금도금의 합금조성이 γ 상의 범위로 철기재측에서 표층방향으로 향한 ...
  • 도금액이 침지 또는 분무, 캐스케이딩, 주입 등에 의해 도금될소재표면에 도포되는 도금공정에서 착화제로 사용하기 위한 환경적으로 무해한 티오우레아의 효과적인 대체물...
  • 금속재료의 고기능화를 목적으로한 습식도금법에 있어서 아연계 합금피막의 조직제어기술과 그 응용에 관한여 설명
  • 치환도금 ^ Displacement Plating 용액중의 한 금속이 다른 금속과 화학적인 교체 반응을 일으켜 전기적으로 귀(貴)한 금속이 용액중의 비(卑)한 금속과 교체하여 표면에 피...
  • 무전해 니켈-인과 텅스텐의 석출은 이러한 도금의 열안정성과 내식성을 크게 향상시키는 것으로 밝혀졌으며, 텅스텐 석출로 인해 도금의 인 함량이 감소하는 것으로 나타났...