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검색글 Yoshihiro Suzuki 6건
무촉매 방법에 의한 구리상의 무전해니켈 도금막의 석출기구
Mechanism for the deposition of electroless nickel films on copper with No catalyzer

등록 : 2008.08.09 ⋅ 44회 인용

출처 : 표면기술, 44권 11호 1993년, 일어 7 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2024.10.18
환원제로 디메틸아민보란을 이용함에 따라 무촉매 방법에 의한 구리 배선상에 형성된 구리산화막을 환원하여, 니켈도금막을 형성하는 것이 가능함에 따라, 이로서 얻은 무전해니켈도금막의 생성기구에 관하여 검토한 실험
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  • 약전해 처리 (공전해) ^ Electrolytic purification 일반적인 도금액 중 미량 중금속 이온은 도금 금속보다 분해전압이 낮은 경우, 낮은 전압과 전류로 전해처리 하면 제거...
  • CMP 슬러리의 성분 분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다. 1. CMP 슬러...
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