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검색글 Shozo MIZUMOTO 19건
무전해 구리도금법에 의한 ULSI 배선의 형성
Fablication of ultra-large scale integrated circuit by electroless copper plating system

등록 : 2008.08.16 ⋅ 30회 인용

출처 : 표면기술, 49권 12호 1998년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.08
A.Vaskeis 의 비본적개념을 참고하여 현행의 무전해 구리도금과 다른 구성성분과 석출기구를 기반으로한 도금욕으로, 실리콘웨이퍼상의 콘택트홀내에 구리를 충진하는 방법에 관한 검토
  • 무산소구리 ^ Oxygen Free Copper (OFC) 전해구리를 용해할때 탈산제를 가하여 산소와 산화물을 완전히 제거하여 재결정한 것으로 양극 슬라임의 발생이 적다. [피로인산구...
  • 전기분해 양극체표면의 변위 전극증감량의 측정을 지속적으로 하여 그 특성상관성에 관한 고찰
  • 객관적인 평가방법을 확립할 목적으로, 종래의 목시적인 외관평가 방법을 대신하는, 측색법을 이용하여, 외관평가를 수치화하는 것을 연구
  • 은 Ag 은 귀금속중 가장 저렴하고 (현재 약 10 엔/g, 금 Au 은 500 엔/g, 백금은 1400 엔/g) 산출량도 비교적 많고 가공성이 뛰어나며 연성 좋은 아름다운 백색을 띤다. 옛 ...
  • 수용액에 구리이온, 수산기 라디칼, 구리이온용 착화제, 포름알데하이드 및 포름알데하이드 첨가제를 포함하는 무전해 구리도금 용액, 여기서 하이드록실 라디칼에 대한 구...