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무전해도금에 의한 미세홀의 버텀업
Botto-up filll of Cu on Ultra-fine holes by electroless plating

등록 2008.08.25 ⋅ 48회 인용

출처 표면기술, 58권 7호 2007년, 일본어 5 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
미세홀의 비아필링을 위하여, 몇가지 첨가제의 효과를 비교검토하고, 전해구리도금에서 유기 유황계 첨가제를 선택하고, 무전해도금에서의 작용을 연구
  • 프린트배선판에 있어서 고밀도화에 유효하다고 보고된 비아필링황산구리도금에 의한 구리피막에 관하여 결정학적 관점에서 검토한 보고서
  • Niplate 500은 인 함량이 높은 무전해 니켈 도금액 입니다(P에서 10~13%). 식품과 접촉하거나 부식성의 화학 물질에 대한 내식이 필요한 경우에는 다른 Niplate 도금보다 우...
  • 무전해도금에서는 용액에 존재하는 환원제와 금속이온 사이의 화학반응의 결과로 금속 도금이 형성된다. 이러한 반응에서 나타나는 금속상은 용액의 벌크에서 또는 고체표면...
  • 전기접촉저항을 낮추기 위하여 전기부품에 은도금을 합니다. 손으로 만진후 트리크로로에칠렌 증기 세척하는 경우, 용액중의 염소이온이 함유된 이유로 은 표면에 염화은의 ...
  • 힌리히슨욕 ^ Hinritchsen Plating Bath 니켈-코발트 합금도금의 하나로 Otto Hinritchsen 이 개발하였다 240 g/l 황산니켈 35 g/l 염화니켈 30 g/l 붕산 15 g/l 황산코발트...