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무전해도금에 의한 미세홀의 버텀업
Botto-up filll of Cu on Ultra-fine holes by electroless plating

등록 : 2008.08.25 ⋅ 38회 인용

출처 : 표면기술, 58권 7호 2007년, 일본어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
미세홀의 비아필링을 위하여, 몇가지 첨가제의 효과를 비교검토하고, 전해구리도금에서 유기 유황계 첨가제를 선택하고, 무전해도금에서의 작용을 연구
  • 기존 인산염 피막 처리제의 구성요소인 유리산 (H3PO4), 제 1 인산아연 [Zn(H2PO4)2], 촉진제 (O) 를 주성분으로 하고 기존 피막 처리액의 온도인 45 ± 2 ℃ 에서 35 ± 2 ℃ ...
  • 3중 니켈도금 ^ Triple Nickel Plating 장식용 내식도금으로 니켈-크롬 층간에 3층으로 이루어진 도금으로 보통은 하지에서 [반광택니켈도금|반광택 니켈도금]→[트리니켈도...
  • 코발트 Co 전석막의 우선배향성에 관하여, 전해조건, 욕조성의 변화를 검토하고, Co 해석의 분극곡선을 측정하여 우선배향과의 관련을 고찰
  • 나노 크기의 입자, 교반 및/또는 계면활성제의 사용에 의한 전해질은 금속과 함께 복합전착될 수 있다. 나노크기 입자의 포함은 증가된 미세경도 및 내식성, 나노결정질 금...
  • 10년 이상 아연에 대한 크롬산염 공정의 대체는 공급개발 실험실의 원동력중 하나였다. CrIII에 기반한 부동태가 허용되는 대체품인것 같다. 그들의 개발은 내식성 성능과 ...