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무전해 구리도금법에 의한 ULSI 배선의 형성
Fablication of ultra-large scale integrated circuit by electroless copper plating system

등록 : 2008.08.16 ⋅ 30회 인용

출처 : 표면기술, 49권 12호 1998년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.08
A.Vaskeis 의 비본적개념을 참고하여 현행의 무전해 구리도금과 다른 구성성분과 석출기구를 기반으로한 도금욕으로, 실리콘웨이퍼상의 콘택트홀내에 구리를 충진하는 방법에 관한 검토
  • 착화제로 구연산소다, 마론산소다, 글리신 및 에틸렌디아민을 사용하여, 각각의 착화제가 피막조성 및 구조에 주는 영향에 관하여 체계적으로 검토
  • 인쇄배선판의 에칭가공은 각종의 에칭가공액이 있으며, 각각의 특징을 가지고 있느나, 대상금속이 금속구리 이므로, 에칭두께 30~100 μm 의 두께다. 이들의 에칭액의 일반특...
  • 니켈염 ㆍ Nickel Salt 도금용으로 사용되는 니켈염 NIckel SUlfate [황산니켈] NiSO4·6H2O = 262.84 g/mol Nickel Chloride [염화니켈] NiCl2·6H2O = 237.69 g/mol Nickel ...
  • 황산구리와 황산주석을 주염으로 사용하고 복합, 광택제를 첨가하고 주석염으로 안정화시킨 새로운 침지도금 공정을 개발하고, 주요 구성요소의 영향에 대해 논의했다. 도금...
  • 용액농도를 변화한 징케이트용액 및 첨가제로서 미량의 철 Fe3+ 이온을 함유한 징케이트용액을 이용하여, 시료를 순 알루미늄 Al 을 사용하고, 제 1 및 제 2 징케이트 처리...