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검색글 버텀업필링 1건
반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 2014.03.20 ⋅ 31회 인용

출처 CHERIC, , 한글 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 보다 넓은 전해조건의 균일한 자연발색 피막을 만들기 위한 전해초기에 발생하는 피트를 억제할 방법으로, 초기 저전류밀도 전해를 포함한 2단 전해조작을 시험하고, 본처리...
  • 할로겐, 황산염 및 아연산 (징케이트) 알칼리 욕에서의 아연 전석반응 기구를 작종 전기화학적 측정법으로 분석하여, 비교 검토할 목적으로 연구
  • 무전해도금이 각종 표면처리 방법과 어떤 관계가 있는지를 보여 이번 기술 무전해도금이란 무엇인지를 보여준다. 다음 무전해도금에 대해 설명하고 마지막으로 무전해도...
  • 최근 억제제의 우수한것이 발견되면서 보일러, 열교환기, 증발제관, 냉각관 등에 발생하는 스케일 또는 오물을 제거하려면 억제제를 함유하는 용액에 의하여 장치의 재질을 ...
  • 마그네슘 합금은 실용금속 중에서 밀도가 가장 작고 비강도가 높고 전자파 차폐성 등 우수한 특성을 가지고 있다. 이 때문에 디지털 카메라 나 스마트 폰, 노트북 등의 휴대...