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구리 전기도금의 마이크로 비아 충진용 전위 레벨러로서 4,6-디메틸 -2-메르캅토 피리미딘
4,6-Dimethyl-2-mercaptopyrimidine as a potential leveler for microvia filling with electroplating copper

등록 : 2017.11.22 ⋅ 34회 인용

출처 : RSC Advances, 7호 2017년, 영어 12 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Mingzing Tang1) Shengtao Zhang2) Yujie Qiang3) Shjin Chem4) Li Luo⁵) Jingyao Gao⁶) Li Feng⁷) Zhongjian Qin⁸)

기타 :

4,6-Dimethyl-2-Mercaptopyrimidine

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2024.03.13
폴리에틸렌 글리콜 (PEG), 비스 (3-설포프로필) 디설파이드 (SPS) 및 염화물 이온을 조사하였다. 전기화학적 측정, 원자력 현미경 (AFM) 및 X선광전자 스펙트럼 (XPS) 의 결과는 구리 표면의 DMP 흡착이 구리도금을 억제하는 것으로 나타났다. 서로 다른 농도의 DMP 를 갖는 전기도금액을 사용하여 도금후에...
  • 도금액을 냉각장치로 하여 기설정 온도로 냉각시킨 후, 고액분리기를 통하여 도금액에서 탄산염을 분리시키고, 탄산염이 분리된 순수 도금액은 순환시켜서 재 사용하도록 함...
  • 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금에 부식방지 흑색 크롬산염 피막을 형성할수 있는 화학적으로 안정한 흑색 크롬산염 용액이 제공되며, 성분은 용액에 쉽게 용해 된다.
  • 알루미늄 합금의 표면 전처리 기술은 재료의 표면을 탈지하고 양극산화 기술과 결합된 알루미늄 합금 매트릭스 표면의 경도, 내식성 및 내마모성을 향상시킬 수 있다. 다양...
  • 철강의 구리-니켈-크롬 도금공정 ^ Nickel-Chromium Plating Process on Iron or Steel 일반 금속소재상의 방식을 목적으로한 장식 니켈-크롬 도금의 일반적인 공정이다. 금...
  • 다공성 저유전율 유전체 재료를 반도체 장치에 도입하려면 낮은 다운포스 구리화학 기계적 평탄화 CMP 를 개발해야 한다. 대체 부동태화제 인 5- 페닐 -1H- 테트라졸 PTA 가...