로그인

검색

검색글 TSV 8건
3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 : 2018.01.15 ⋅ 16회 인용

출처 : KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타 :

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
  • 니켈 스트라이크 도금 ^ Nickel Strike Plating bath 도금물의 활성력을 높히기 위하여 염화니켈과 염산을 가한 강산성 도금욕을 이용하는 것이 특징 중의 하나이다. 욕의 ...
  • 기술적으로 산화는 전자의 손실을 의미한다. 우리의 경우이 과정은 은 표면에 짙은 갈색에서 검은색으로 변색되는 결과를 가져온다. 이 과정은 저 캐럿 금 Au 및 기타 ...
  • 도금할때 욕전압을 높히고 전류를 증가하면 수소가 많이 발색하게 된다. 이들의 인자가 도금속도와의 관계에 대한 설명
  • 염료 착색법은 어떤 색깔든지 착색할수 있다는 장점은 있지만, 내후성에 난점이 있다. 칼라법으로 대표되는 자연 발색법은 피막의 색조가 황갈색 검은색 계통이며, 비용은 ...
  • 아연-망간 Zn-Mn 합금전착의 기초적인 거동을 분극곡선을 측정하여 검토하고, 위에 열거한 첨가제 외에도 셀렌산나트륨 및 염화칼륨과 같은 첨가제를 첨가하여 전류효율 개...