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3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 2018.01.15 ⋅ 61회 인용

출처 KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료

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분류
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
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  • 붕산첨가시 도금속도에 주는 효과를 조사하고, 가성 알칼리 주석산 코발트 도금액의 착화 화학적검토에 따라 붕산의 촉진기구를 검토
  • 도금액내 스러지 발생원인과 대책을 수립하였으며 이를 토대로 도금액 청정 시스템을 설계 제작하여 현장에 설치하고 이의 운영에 필요한 제반 기술을 확보함으로서 도금용...