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반도체에의 표면처리 - 금 Au 과 납땜(솔더) 범프
Plating on LSI wafer - bump making process for gold and solder

등록 : 2010.01.22 ⋅ 49회 인용

출처 : 표면기술, 44권 12호 1993년, 일어 10 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.03
LSI 범프 도금에 필요한 문제점의 설명
  • 황산구리 도금액 ^ Acid Copper Plating Bath Analysis 황산구리 도금액 1 ㎖ 를 정확히 취하고 물 50 ㎖ 를 가한다. 1:1 NH4OH 를 액이 청색이 되도록 가한다. 다시 1:1 H2...
  • BAOF 의 결정구조, 고전장성 자기구, 이온이동과 피막구조, 결정성 산화피막의 생성, BAOG 의 절연파괴, BAOF의 중성 용액중에 있어서 산화, BAOF 산화 Al의 아노드 분극시...
  • 도금이란? ^ PlatingㆍGalvanizing 넓은 의미에서 도금은 어떤 물체에 다른 물체 막을 앏게 입히는 것으로, 성능과 기능 그리고 외관을 향상할 목적으로하는 처리를 의미한...
  • 전기니켈이나 무전해니켈등의 도금액에 축저된 반응생성물의 제거법으로, 이온교환기술이 이용되고 있으며, 이온교환막을 이용한 각종 투석법은 금후 기대되는 유망한 처리...
  • 설파민산니켈-철 염계 혼합용액에 관하여 용액적 일반특성과 합금전착의 전해액 조성 전착실험에 관한 보고