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염화트리에틸 벤질암모늄이 주어진 구리 전착의 동역학
Kinetics of copper electrodeposition in the presence of triethyl-benzyl ammonium chloride

등록 : 2011.07.29 ⋅ 46회 인용

출처 : Applied Electrochemistry, 33권 2003년, 영어 8 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.12
회전 디스크전극에서 준 안정상태 유체역학적 전압전류법과 전기화학 임피던스 분광법을 사용하여 염화 트리에틸 -벤질 -암모늄 (TEBA) 이 황산염 산성전해질의 구리전착 역학에 미치는 영향을 조사했다. SEM 및 X-선회절 분석을 사용하여 구리석출의 형태와 구조를 조사했다. Tafel 과 Koutecky - Levich 해석 모두에서 얻...
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  • 주석과 그 전착의 중요성을 요약하고 주석 도금 범위를 설명하였다. 지난 20년 동안 나노 구조 전착에 대한 연구, 환경 친화적인 메탄설폰산욕의 채택, 다층 및 복합 재료를...
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