로그인

검색

검색글 11129건
Modern Electroplating (13) ULSI 내부회로장치의 전기화학석출 공정
ELECTROCHEMICAL DEPOSITION PROCESS FOR ULSI INTERCONNECTION DEVICES

등록 2012.07.23 ⋅ 104회 인용

출처 Modern Electroplating, na, 영어 14 쪽

분류 교재

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.08
집적 회로 (IC)는 수천 또는 수백만 개의 상호 연결된 반도체 장치 (주로 트랜지스터와 저항과 같은 수동 부품)로 구성된다. 20 세기 후반에는 반도체 소자 제조의 발전과 관련 실험적 발견이 IC 기술의 발전으로 이어졌다. 많은 수의 작은 트랜지스터를 칩에 통합하면 전기 시스템의 복잡성과 성능이 크게 향상되었다. 작은...
  • BEH
    BEH ^ 2-butyne-1,4-diol with epichlorohydrin Reaction products of 2-butyne-1,4-diol with epichlorohydrin CAS : 68876-96-0 성상 : 황색 점성의 액상 ㏗ 7~8 (10 % 수...
  • 도금 재료 · Plating Materials 참고 [유기약품|유기 화합물] [무기약품|무기 화합물] [첨가제|광택제ㆍ첨가제] [도금약품] [연마재] [양극]
  • 시안화 아연도금욕, 저시안 아연도금욕 및 징케이트욕등의 알칼리성 아연도금욕중의 아연, 철 및 양자를 사용할 때의 양극의 거동에 관하여 검토
  • 전자산업의 영구적인 과제는 더 높은 대량생산과 생산을 특징으로하는 생산비용을 줄이기위한 방법을 찾는 것이다. 저렴한 코팅 재료를 선택하는 것 외에도 고속도금이 가능...
  • 전착아연 및 아연합금도금은 내식성 분야에서 철강 보호를 위한 희생재료로 널리 사용된다. 아연도금의 균질성, 광택 및 부식방지 거동, 도장성 및 기계적 특성은 피막...