로그인

검색

검색글 마이크로전자 및 패키징학회지 3건
TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 2014.02.23 ⋅ 22회 인용

출처 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
  • 크롬 전착층의 경도는 우선배향성과 관계 없고 전착층의 조성과 잔유응력과 결정입도에 관계 있어으며, 전류밀도가 일정할때 줄무는형 구조 또는 높은 잔류응력 또는 미세한...
  • 실제 환경에서 가전 제품의 부식실태와 기존의 부식 촉진 시험법의 과제를 근거로 실제 환경과의 상관성이 높은 가전용 표면 처리 강판 새로운 내식성 시험법 'ACTE' 을...
  • 안녕하세요. 현재 반도체에 무전해 구리 도금을 이용한 연구를 진행하고 있습니다. 도금 특성을 분석을 위해 구리 비저항을 측정을 하려고 합니다. Sheet R과 두께로 비저항...
  • 스테인리스 특성 ^ Stainless Steel Properties 강종 특성 410/MSS (12/13 wt% Cr 계) 430/FSS (18 wt% Cr 계) 304·316/ASS (18Cr-8Ni 계) 631 (17Cr-7Ni 계) 자성 있음 있...
  • 도금에 의한 다이아몬드의 c-BN 절삭공구의 개요와 전착포인트에 관하여 설명