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반도체에의 표면처리 - 금 Au 납땜 범프
Plating on LSI wafer -Bump making process for GOld and SOlder

등록 : 2008.09.10 ⋅ 34회 인용

출처 : 표면기술, 44권 12호 1993년, 일본어 10 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
범프도금은 20~100 μm 의 두께로 두껍게하지 않기 때문에, 상당히 균등한 평활성이 필요하고, 깊은 저항성 홀내의 도금이 필요하여, 이 두가지 관점에서 기본적인 문제해결의 방향을 제시
  • 양극산화는 내구성, 장식 및 부식방지 처리에 적용되어 압출 건축 및 구조용 알루미늄의 마감 공정으로 사용 된다. 원하는 표면 및 구조적 특성에 따라 수많은 알루미늄 합...
  • 폴리아민과 알데하이드 및 카복실산의 반응으로 얻은 수용성 제품을 구연산기반 주석(합금)기반 전기 도금조에 첨가하여 광택이 있는 도금피막을 우수하게 전착한다.
  • 주석 이온의 회수율에 대한 환원제로서의 아황산나트륨의 영향을 조사하였다. 접근 방식은 HZ016 유형 양이온 교환 수지를 사용하여 먼저 전기 도금된 주석 용액에서 Sn2+ ...
  • 아연-니켈 Zn-Ni 및 아연전기도금의 제조에 있어서, 각종불순물이 도금욕에 혼입하여 건석거동에 변화하는것으로 알려져 있다. 그 중 실제조업에 통상 사용하는 불용성 ...
  • 은판을 소재로 금도금한 제품이 변색 도는 부식되어 하지 니켈도금층의 니켈 산화물이 발생하는 등 명예로서 받은 영구보존해야할 훈장이 부식되는 문제점을 설명 염희택/ ...