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검색글 반도체 6건
반도체와 전기화학 1/2
Cu electrodeposition for semiconductor interconnection

등록 : 2014.03.20 ⋅ 15회 인용

출처 : CHERIC, , 한글 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.16
구리 배선 공정은 플라즈마 식각시 발생하는 부산물의 제거가 어려운 특성이 있어, 기존의 etch-back 공정대신 층간 절연막을 먼저 형성한 후 금속이 들어갈 자리를 사진 식각 공정 (photo-lithography)을 통해 형성 하고 후속 전해도금을 이용한 구리막의 채움으로 진행된다. 이러한 공정은 단순히 단차 피복율(step covera...
  • 3가 크로메이트 피막 ^ Trivalent Chromate Coating Composition & Anti-Corrosion 3가 크롬을 주제로 이용한 아연도금 부동태 피막의 연구에 관하여 설명하였다. 실험에는 ...
  • 코발트, 니켈 및 철을 포함하는 3개의 산성 시안화 용액에서 금 Au 의 레이저강화 전착 (LEE) 에서 일부조건을 시뮬레이션하기 위해 고온 및 압력에서 금도금을 하였다. LEE...
  • Zn-Cr합금전석기구를 한층 명확화 하고, 고분자첨가제를 함유하지 않는욕으로, 과전압을 제어하는 펄스전해법에 착안하여, Zn 과 Cr의 공석과정에 관하여 검토
  • 환원전위 [표준환원전위] (Reduction Voltage) 참고 환원전위
  • 전해구리박 제조 및 전기도금 공정에서 발생하는 슬러지와 구리가공 공장의 산세처리에서 생성된 슬러지를 이용한 유가금속 구리을 회수함에 있어서, 환원제로 폐타이어 건...