습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황동)을 사용하였습니다. 2개 이상의 합금...
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전처리에 의한 실리콘표면에 형성된 금속나노노드 길이와 무전해도금막의 밀착성
전처리후단의 Si나노공 형태의 조건을 제어하는 것으로, 금속나노로드의 길이와 밀착성의 관계에 관하여 조사
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표면기술 · 54권 12호 2013년 · Masato ENOMOTO ·
SHinji YAE
외 ..
참조 16회
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주석 Sn2+- 착이온 환원에 따라 만든 은나노입자의 구조 형태에 관하여 설명하고, 에폭시수지 소재의 컨디셔닝에 의한 은 나노입자의 흡착촉진의 조성 형태에 주는 영향에 관하여 검토하고, 촉매화처리의 효과를 무전해구리 도금의 초기 석출속도 및 형태와 관련한 무전해구리의 전처리 석출구조를 연구
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표면기술 · 64권 12호 2013년 · Yutaka FUJIWARA ·
Yasuyuki KOBAYASHI
외 ..
참조 47회
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프린트배선 기판에 있어서 탈지 / 세척 / 촉매
스루홀 도금공정에 이용되고 있는, 무전해 구리 도금 전처리로서의 탈지 세척 촉매공정을 중심으로 해설하고, 프린트배선 기판은 그 형태로부터 리지드 배선기판과 프렉시블 배선기판으로 나누고, 층수에서 단폄 기판 양면기판 다층기판으로 구분하여 설명..
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표면기술 · 64권 12호 2013년 · Dumio AIKI ·
Satoshi KAWASHIMA
참조 19회
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전착된 팔라듐-니켈-인 Pd-Ni-P 합금피막의 결정구조와 특성을 조사했다. 얻어진 합금피막은 Pd-Ni 고용체 상과 Pd-Ni-P 비정질상으로 구성되었다. 인 석출을 통해 피막은 fcc 격자의 폐쇄면으로 배향변환을 겪고 Pd-Ni 고용체상의 결정크기가 감소하는 것으로 밝혀졌다. 인 함량이 증가함에 따라 피막...
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SHM회지 · 10권 2호 1994년 · 加藤 凡典 ·
참조 39회
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알루미늄-니켈피막간의 밀착강도 에서, 니켈치환역의 욕조성과 조건에 관하여 검토하였다. 그 결과를 기초로 알루미늄상의 직접 미세한 니켈범프를 만드는것이 가능하다.
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SHM회지 · 10권 2호 1994년 · 本間 英夫 ·
小林 健
참조 18회
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프린트배선판과 도금가공 제4회 금속레지스터도금
패턴도금법으로 패턴형성의 도금용인 에팅레지스터로서 금속레지스터도금에 관하여 설명
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써킷테크노로지 · 5권 1호 1990년 · Akira ENDO ·
참조 20회
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ULSI 배선상의 무전해니켈 도금에 의한 베리어 메탈의 형성
현재 베리어층으로 사용되고 있는 질화규소 SiN 막의 대체로, 무전해니켈 합금도금을 이용한 50 nm 정도의 피막을 독립화한 구리의 패턴위에 성막하여, 소위 캡메탈 형성에 관하여 검토
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일렉트로닉스실장학회지 · 4권 4호 2001년 · Yuichi TAKADA ·
Kaoru ISHIKAWA
외 ..
참조 31회
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빌드업 프로세스에 의한 프린트배선판에 관하여 많은기술이 있으나, 여기에서는 절연층에 있어서 바이어의 형성 및 도체 파인패턴형성을 중심으로 설명
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SHM회지 · 13권 2호 1997년 · Kiyoshi TAKAGI ·
참조 49회
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비아필링에 있어서 도금의 성장과 석출과정의 형태등의 메카니즘을 조사
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일렉트로닉스실장학회 · 강연대회논문 24권 2010년 · 和久田 陽平 ·
杉本 将治
외 ..
참조 31회
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새로운 분소채약과 그 채약의 특징을 살린 무전해법으로 만든 도체형성 프로세스의 개발
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써킷테크노로지 · 2권 2호 1988년 · Koichi TSUYAMA ·
Toshiro OKAMURA
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참조 17회
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