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3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 2018.01.15 ⋅ 59회 인용

출처 KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료

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분류
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
  • 미세화의 요구와 그 동향에 관하여 설명하고, LIGA 프로세스에 관한 설명 [微細加工技術と将来のめっき技術]
  • 유가금속중 Cr을 회수하기 위하여 Cr도금 모겔폐수를 이용한 Cr의 농도, 압력, pH 등을 변화하면서 membrane 과 Cr 의 상관성을 살펴보았다.
  • 다양한 조성의 3가 크롬욕에서 얻은 크롬 피막의 내식성과 도금의 전기화학적 거동 및 미세 구조에 대한 용액 화합물의 영향을 연구하였다. 크롬 도금은 차아인산나트륨과 ...
  • 이원합금의 전착에 관한 최근 문헌이 비판적으로 검토되고 있다. 수용액로부터의 합금전착 활동은 최근 몇년동안 지속적으로 확장되고 있다. 보호 및 장식용 합금도금은 계...
  • 탄소강 炭素鋼, carbon steel 강의 성질은 주로 탄소 함유량에 따라 다르다. 철과 합금으로 탄소 함량이 0.02~2.11 % 포함된 강을 말하며 기타 성분으로 규소ㆍ망간ㆍ인ㆍ황...