로그인

검색

검색글 TSV 8건
TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 : 2014.02.23 ⋅ 10회 인용

출처 : 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
  • 도금과정에서 구리 Cu 표면에 흡착되는 유기분자와 염화물 이온의 혼합물 : 두께 분포 및 기능 채우기 향상 Cu 입자 구조 제어-> 연성, 경도, 응력평활도구성 성분 : 광택제...
  • 에너지 스펙트럼 ^ Energy Spectrum [분석기기] 참고 wiki 방출스펙트럼
  • 광학적방법에 따른 화성처리강판의 미소 백청의 가시화와 객관적인 평가 방법에 관하여 검토하고, 백청을 고정도로 압출하여 가시화하고, 관찰화면의 화면해석에 따라 백청...
  • 금속 전착 계수 ^ Metal electrodeposition factor 원 자 가 그램 당량 비중 전기화학 당량 mg /쿠롱 1A/dm2 통전 석출량 1A×시간당 석출량 1dm2 m또는 1g 석출소요전기량 ...
  • 펄스 파리미터와 피막의 형태와의 관계에 관한 설명